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磁控溅射钼靶材

发布时间:2015-05-21 15:54:40

 钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。

钼靶材纯度:99.9% 
规格:圆形靶,板靶,旋转靶(根据客户需要)
钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
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