镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。随着材料表面技术的飞速发展，各种镀膜靶材的市场需求量不断增长，同时，某些高端领域所需的高质量薄膜又对相应靶材的技术指标提出了更高的要求。
安泰难熔材料分公司作为国内最早从事多种材料研发与生产的单位，依托自身雄厚的技术和设备优势，目前已经发展成为镀膜靶材的专业制造商。我公司拥有大型冷/热等静压机、真空感应熔炼炉、大型冷/热轧机等制造设备及规模化的机加工车间，可为玻璃、机械加工、平面显示、汽车、能源、家电、半导体、磁数据存储、光数据存储等行业提供多种高品质的纯金属及合金靶材。我公司生产的靶材产品除供应国内客户外，已远销至美国、德国、法国、日本、新加坡、韩国、台湾等国家和地区，在ISO9000/14000/18000三体系的保障下，产品质量深受用户信赖。
靶材种类
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平面靶
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纯金属靶材
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Cr,Ti,Ni,Co,AI,Sn,In,Mg,Zr,Nb,V,Ta
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合金靶材
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TiAI,WTi,NiCr,NiV,NiTi,NiCu,CrAI,CrW,CrSi,CrTi,
CrV,ZnSn,ZnAI,FeNi,InSn,SiAI,WC
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CoCrTa,CoNbZr,CoFeB,NiCrFe,TiAICr,NiCrAIY,CoCrAIY,FeCrAIY
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贵金属靶材
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Au,Ag
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管状靶
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Cr,Sn,Nb,W,ZnAI
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产品用途
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靶材名称
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用途
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铬靶
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集成电路、半导体、光学、刀具
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钨靶
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用于离子镀薄膜材料
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氧化钨靶
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光学、信息
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钼靶
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用于离子镀薄膜材料
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铬钨靶
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用于离子镀薄膜材料
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钛靶
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镀膜玻璃
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咨询电话：李经理18613301814 |
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