氧化铌靶材

 氧化铌靶材：

纯    度：3-4 N

相对密度：d≥ 99%

理论密度：ρ= 4.61 g•cm^-3

实际密度：ρ≥ 4.6 g•cm^-3

用途：应用于光学玻璃及电子工业，制特种光学玻璃、高频和低频电容器及压电陶瓷元件等。