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平面钼（Mo）方靶 真空热压靶系列

发布时间：2014-03-17 10:38:17

 

平面钼（Mo）方靶
 (Mo Rectangle Sputtering Targets)：                                                                                                                                                              
 
技术指标 (Technical data)：
纯度(Purity)：99.99%                          
晶粒尺寸(Grain size)<100um
表面光洁度(RMS)：Ra0.8
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