钛靶材

 北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯金属，高纯靶材，以及靶的相关产品。 

    常规靶材生产工艺为：铸锭（感应电溶解电子束熔炼法连续铸造）→→成型（锻造→热轧或冷轧→拉伸）→→热处理（均质化，再烧结）→→精密机械加工（切削，铣，车，磨，刨）→→与背板结合（软焊，扩散焊）→→检测（超声波，X光射线探伤）→→包装运输
    北京冠金利新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下：

1 高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，锌，镍，锡，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲，镓，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。 
    2 高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La　金靶Au　等。 

3 合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝　V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。 

4 陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2 二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2, 二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、、二氧化铪靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化硅靶，氮化钛靶，铌酸锂靶、、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。

注所有产品规格可根据客户要求定做。

钛铝合金在钛原子含量大于等于50%时可以用真空熔铸的方式生产，当钛含量减少铝含量相对增加时就只能通过粉末冶金的方法来生产才能达到靶材的要求。钛原子大于等于80%时的钛铝合金还可以锻造，可以轧制。钛铝合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。在做真空镀膜靶材时钛铝合金有多种成分比例，常用的有钛铝原子比(at%)90:10、80：:20、70:30、50:50、30:70、20:80、10:90

一种以铝、硅为主成分的锻造和铸造合金。

一般含硅11％。同时加入少量铜、铁、镍以提高强度。密度2.6～2.7g/cm3。导热系数101～126W/(m·℃)。杨氏模量71.0GPa。冲击值7～8.5J。疲劳极限

±45MPa。